Hafniumtetrachloride | HfCl4-poeier | CAS 13499-05-3 | fabrykspriis

Koarte beskriuwing:

Hafniumtetrachloride hat wichtige tapassingen as in foarrinner fan hafniumokside, katalysator foar organyske synteze, nukleêre tapassingen en tinne-filmôfsetting, wat syn alsidichheid en belang yn ferskate technologyske fjilden beklammet.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Stjoer e-post nei ús

Produktdetail

Produktlabels

Produktbeskriuwing

Koarte ynlieding

Produktnamme: Hafnium tetrachloride
CAS-nûmer: 13499-05-3
Formule fan gearstalling: HfCl4
Molekulêr gewicht: 320.3
Uterlik: Wyt poeier

Spesifikaasje

Ûnderdiel	Spesifikaasje
Ferskining	Wyt poeier
HfCl4+ZrCl4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Oanfraach

Hafniumdiokside foargongerHafniumtetrachloride wurdt benammen brûkt as in foarrinner om hafniumdiokside (HfO2) te produsearjen, in materiaal mei poerbêste diëlektryske eigenskippen. HfO2 wurdt in soad brûkt yn hege-k diëlektryske tapassingen foar transistors en kondensatoren yn 'e healgeleideryndustry. HfCl4 is essensjeel by de fabrikaazje fan avansearre elektroanyske apparaten fanwegen syn fermogen om tinne films fan hafniumdiokside te foarmjen.
Organyske syntezekatalysatorHafniumtetrachloride kin brûkt wurde as katalysator foar ferskate organyske synteze-reaksjes, benammen olefinpolymerisaasje. De Lewis-soereigenskippen helpe by it foarmjen fan aktive tuskenprodukten, wêrtroch't de effisjinsje fan gemyske reaksjes ferbettere wurdt. Dizze tapassing is weardefol by de produksje fan polymers en oare organyske ferbiningen yn 'e gemyske yndustry.
Nukleêre tapassingTroch syn hege neutronenabsorpsje-dwersdoorsnede wurdt hafniumtetrachloride in soad brûkt yn nukleêre tapassingen, benammen yn kontrôlestangen fan kearnreaktors. Hafnium kin neutronen effektyf absorbearje, dus it is in geskikt materiaal foar it regeljen fan it splitsingsproses, wat helpt om de feiligens en effisjinsje fan kearnenerzjyopwekking te ferbetterjen.
Tinne filmôfsettingHafniumtetrachloride wurdt brûkt yn gemyske dampôfsettingsprosessen (CVD) om tinne films fan hafnium-basearre materialen te foarmjen. Dizze films binne essensjeel yn in ferskaat oan tapassingen, ynklusyf mikro-elektroanika, optyk en beskermjende coatings. It fermogen om unifoarme, heechweardige films ôf te setten makket HfCl4 weardefol yn avansearre produksjeprosessen.