Hafnium Tetrachloride | HFCL4 Peintiaal | CAS 13499-05-3 | fabryk priis

Hafnium Tetrachloride | HFCL4 Peintiaal | CAS 13499-05-3 | fabrykspriis featured ôfbylding

Koarte beskriuwing:

Hafnium Tetrachloride hat wichtige applikaasjes as in foarrinner fan Hafnium-okside, kataal, katalyske synthesis, nukleêre applikaasjes, en tinne film en belang markearje yn ferskate technologyske fjilden.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Stjoer e-post nei ús

Produkt detail

Produkt tags

Produkt beskriuwing

Koarte ynlieding

Produkt Namme: Hafnium tetrachloride
CAS NO.: 13499-05-3
Gearstalde formule: hfcl4
Molekulêr gewicht: 320.3
Uterlik: Wite poeder

Spesifikaasje

Ûnderdiel	Spesifikaasje
Ferskining	Wyt poeder
Hfcl4 + zrcl4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤55ppm
Al	≤60ppm

Oanfraach

Hafnium Dioxide foarrang: Hafnium Tetrachloride wurdt primêr brûkt as foarrinners om Hafnium Dioxide te produsearjen (HFO2), in materiaal mei poerbêste dieleilen. HFO2 wurdt breed brûkt yn Dielektryske applikaasjes foar transistors en kapasiteiten yn 'e Sementuctor-yndustry. HFCL4 is essensjeel yn 'e fabrikaazje fan avement elektroanyske apparaten fanwege syn fermogen om tinne films fan Hafniumdiokside te foarmjen.
Organic Synthesis Catalyst: Hafnium Tetrachloride kin brûkt wurde as katalysator foar ferskate organyske synthese-reaksjes, foaral olefin polymanisaasje. De lewis soere eigenskippen helpe om aktive tuskentiids te foarmjen, wêrtroch't de effisjinsje fan gemyske reaksjes ferbetterje. Dizze applikaasje is weardefol yn 'e produksje fan polymen en oare organyske ferbiningen yn' e gemyske yndustry.
Nuclear-applikaasje: Fanwegen syn seksje fan hege neutroan absorption-krús, wurdt hafnium tetraach-brûkt yn nukleêre applikaasjes, fral yn kontrôle stangen fan nukleêre reaktors. Hafnium kin effektyf absorbearje, dus it is in gaadlik materiaal foar it regeljen fan it fongenproses, dy't helpt om de feiligens en effisjinsje fan nukleêre macht-generaasje te ferbetterjen.
Tinne film deposition: Hafnium Tetrachloride wurdt brûkt yn chemyske dampdedosysje (CVD) prosessen om tinne films te foarmjen fan hutte-basearre materialen. Dizze films binne essensjeel yn in ferskaat oan applikaasjes, ynklusyf mikroeleektronyk, optyk, en beskermjende koatingen. De mooglikheid om unifoarm te deponearjen, films fan hege kwaliteit makket HFCL4 weardefol yn avansearre produksjeprosessen.